개요
특허제도는 신기술(발명)을 개발한 자에 대하여 그 기술을 일반에 공개하는 대가로 독점권을 부여하는 제도입니다.
발명은 "자연법칙을 이용한 기술적 사상의 창작으로서 고도한 것"을 말하며, 물건, 장치, 공정, 방법 등 어떤 범주에 속하는 창작이라도 특허의 대상이 됩니다.
특허권은 실용신원권과는 달리 출원인이 심사청구를 하여 심사관에 의한 소정의 심사를 거친 후 설정등록을 함으로써 비로소 발생합니다.
특허조건
특허권 등록을 받기 위해서는 출원된 발명이 산업상 이용가능성, 신규성, 진보성 등을 갖추어야 하고 선출원주의에 위배되지 않아야 합니다.
신규성
출원 전 이미 국내에서 알려졌거나 공연히 실시된 발명과 동일하거나 국내외에서 반포된 간행물에 기재된 발명과 동일한 발명이거나, 대통령령이 정하는 전기통신회선(인터넷 등)을 통하여 일반에게 알려진 발명과 동일한 발명은 특허를 받을 수 없습니다.
진보성
신규성 규정에 따라 이미 알려진 발명으로부터 그 분야에 속하는 기술자들이 용이하게 발명할 수 있는 발명은 특허를 받을 수 없습니다.
선출원주의
동일한 발명에 대하여 중복하여 특허출원된 경우 먼저 출원한 자만이 특허를 받을 수 있습니다.
심사청구제도
특허법에서는 심사청구제도를 채택하고 있습니다. 따라서 출원된 발명은 심사청구서를 제출하여야만 실체적 심사 이루어지고,
심사청구는 출원과 동시에 또는 출원일로부터 3년이내에 가능하며, 출원일로부터 3년 이내에 심사청구를 하지 않으면 그 출원이 취하된 것으로 간주됩니다.
또한, 특허법에서는 특허출원으로부터 특허권 획득까지 장기간 소요되는 단점을
보완하기 위하여, 출원중인 발명을 타인이 무단으로 실시하고 있는 경우 또는 긴급처리가 필요하다고 인정되는 경우로서 대통령이 정하는 경우에는
우선심사를 신청할 수 있도록 하고 있습니다. 이 경우 출원인은 우선심사신청을 할 수 있으며,
특허청의 우선심사 결정이 나면 심사청구 순서와 상관없이 우선적으로 심사합니다.
출원 및 심사절차
